不顾老美反对!ASML一夜之间失去原有“自信”
在全球缺芯的状态下,是需要大量新建产能的,但前提是要有光刻机,否则是无法造出芯片的,虽然垄断了全球市场,但实际经营权并不在自己手中,无法给需要的客户提供产能,也让ASML陷入了尴尬的循环中。
目前各大芯片厂商,都在致力于研发全新的工艺,从而摆脱对于光刻机的依赖,为了缓解市场的走向,ASML唯有在更先进的工艺上持续发力,最新款的NA EUV光刻机,预计在2024年就能交付使用。
ASML不再“自信”了
目前老美已经通过了最新的芯片法案,此前的相关消息也得到了确认,接受补贴的企业,十年内不得在中、俄市场扩产、新建先进产能的计划,这已经从根本上影响到了ASML的出货量,但这并非最致命的。
在新规当中对先进工艺范畴进行了调整,先进工艺被界定为28nm以下,意味着14nm将被划定为先进工艺,而DUV光刻机是支持生产7nm以上工艺的,这很有可能针对的就是中国市场。
在芯片法案还没落地之前,老美就曾找到ASML商谈,要求把对特定市场的进出口限制,从EUV升级为DUV范畴,只不过这样的无理要求被直接拒绝了,于是乎老美又想出了这么一出。
可以说一夜之间,ASML没有了“自信”,EUV光刻机需求量有限已经成为了不争的事实,如果DUV光刻机再受限制的话,那就意味着彻底无缘中国市场了,在后续的市场份额上也得不到保证。