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全球第一台！分辨力最高！七年磨一剑，中国自主研发的紫外超分辨光刻机，终于来了！前不久，北京传来大消息：中国科学院成功研制出了世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻机，其光刻分辨力达到22纳米，结合多重曝光技术后，可用于制造10纳米级别的芯片。

你没有看错，不是引进，不是模仿，而是自主研发、世界首台。

消息一出，科技圈炸了！要知道，该光刻机使用365nm的光源，单次曝光做到22纳米！

22纳米是什么概念呢？中科院的文章中提到了一个对比：

头发的直径约为80微米，22纳米是头发直径的1/3600。也就是说，这个光刻机能够在头发表面加工各种复杂的结构。

而使用365nm的光源，则相当于我们用很粗的刀，刻出一条很细的线，打破了传统的衍射极限！

那么，这台光刻机与大名鼎鼎ASML荷兰光刻机对比怎么样呢？

举个不恰当的例子吧，这就像是初期的枪械与最厉害的弓箭的对比。早期枪械，比如火铳，无论是射击精度还是射击距离都远远比不上厉害的弓箭；但是很快，狙击枪就把弓箭甩开十万八千里了。

想想《三体》里，三体人的水滴，是怎样摧毁地球人的星际舰队吧。是的，请记住这一天。就在今天，中国绕过国外相关知识产权壁垒，建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线。

这意味着中国芯片技术将全面突破欧美封锁，这是中国芯片胜利反击的辉煌一刻，更是中国科技发展的历史一刻！