最近有一则新闻是，中国科学院原院长白春礼调研长春光机所，通稿中写了对长春光机所在高端光刻“卡脖子”领域的技术突破和成果转化上取得进展给予了高度评价。

目前，中国EUV三大关键技术均已突破，现在国产EUV只是时间问题，乐观估计2025年之前我们首台EUV光刻机将要问世。

尤其是看到美国半导体协会、阿斯麦的态度改变，更能证实我们半导体是真的快全面突破了。

事实上，美国政府的这些贸易限制决策，半导体协会的游说起了关键作用，

但是眼看中国的半导体事业稳步推进，中国的高端光刻机可能两三年就突破，打压不成反而丢失阵地，业绩严重下滑，协会坐不住了

。他们也体会到了一个铁律，越是压迫极限制裁中国突破速度越快，他们甚至没料到速度会这么快，所以赶紧踩刹车示好。

这是美国半导体协会在跟美政府唱红黑脸，意思美国政府制裁与我们协会无关，高端制程的芯片我还是继续禁售，但是中低端制程的芯片继续往中国市场倾销。

毕竟市场份额才是最关键的，原本从去年后半年开始，全球芯片需求就开始急剧收缩，芯片巨头都在削减开支。

他们就怕万一禁了高端芯片，中国要是反制禁了他们中低端芯片到中国市场，那美国将要倒一大片半导体公司。

美国拉拢盟友反反复复出“芯片牌”，因为这几乎是科技领域最后一张牌了，但很快这张牌都要打不起来了。

不管美国半导体产业和美国政府怎么唱红脸黑脸，这套把戏已经不顶用了，抓紧时间换国产才是正道。

（责编：薛添翼）