从出货地来看，中国台湾依然是阿斯麦的最大市场，四季度有51%的光刻系统发往当地，占比环比提升5个百分点；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，占比环比下降6个百分点；中国大陆是阿斯麦第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12个百分点。2021年三季度，美国和日本分别在阿斯麦出货中占比10%和1%，但四季度占比均意外降为0，具体原因尚不清楚。

过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍。

与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。当然，0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵，每台售价约为3亿美元（约合人民币19亿元），比0.33 NA光刻机售价高出一倍。

目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市。

早在2018年，英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个高数值孔径EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程。

在本次披露财报时，阿斯麦透露，该公司在2021年四季度收到一份TWINSCAN EXE：5000光刻机订单，累计订单达到5份。与此同时，该公司还在2022年初收到下一代高数值孔径EUV光刻机TWINSCAN EXE：5200的首份订单，下单的还是英特尔。

从路线图来看，TWINSCAN EXE：5200预计最快2024年底投入使用，2025年开始大规模应用于2nm甚至以下先进制程的生产。国外曾有分析师直言，“我敢打赌，英特尔为这一权利花了很多钱，因为他肯定不是唯一想先得到这种机器的公司”。

展望新一年的业绩，阿斯麦预计其2022年一季度销售收入约为33亿-35亿欧元，环比下滑30%-34%。温彼得对此解释称，由于大量的快速出货，约有20亿欧元的预期收入将从第一季度转移到后续季度，这也是该公司一季度预期销售额较低的原因。

纵观全年，即使考虑到目前6个EUV系统的快速出货相关收入将转移至2023年，该公司2022年的营收增长仍将达20%左右。

但这个说法遭到中国台湾半导体分析师陆行之的质疑。他提到，2021年四季度，阿斯麦存储器芯片用光刻机营收占比环比下滑12个百分点，同期确认收入的EUV也低于原预期，或许是韩国三星、海力士因为DRAM（动态随机存储器）合约价格下滑，要求延迟付EUV的款项给阿斯麦。因为既然是快速出货，理论上应该也是快速或准时付款，但现在阿斯麦快速出货却被延迟付款，怎么解释都显得很奇怪。